ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在，而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎，无奈一些关键细节上被美国卡死。
EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了 22nm-7nm，可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备，只有ASML能造出来。
后来此事被报道后，ASML回应称，对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁，且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时，荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。
不过，最终这个交易也没有形成，根据知情人士的说法，美国立即盯上了这笔交易——接下来的几个月里，美方官员至少四次与荷兰官员开会，讨论可否直接封杀这笔交易。
此后，关于 EUV 光刻机向中国出口，ASML 的官方说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。
在这之前，ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况，其表示一些情况下，出口光刻机是不需要许可证的。
美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。
