光刻机，在整个芯片生产制造环节，是最最最核心的设备，技术难度极高。
现在，一个难得的好消息是，光刻机可以进口了，并且美国无需限制。
而这个底气是半导体巨头、全球光刻机领头企业荷兰的阿斯麦尔(ASML)给中国的。
10月14日，ASML首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen），对向中国出口光刻机的问题作出了表态。他表示：
ASML可以从荷兰向中国出口DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。
这无疑给了中国半导体行业新的希望。
但别高兴太早。
ASML方面也提到：
此外，从ASML的表态中也可得知，除了允许进口DUV光刻机外，并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。
尽管如此，这对于中国半导体行业来说都是一件极大的幸事了。
ASML为什么有底气进口DUV光刻机给中国？
RogerDassen解释说：
也就是说，美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。
但如果相关系统或零件是从美国出口的，这就另当别论了。
同时他也表示ASML将尽最大努力，尽可能为所有客户继续提供服务和支持。
值得注意的是，当天也是ASML发布新一季度财报的日子，我们从其财报中也看到了ASML出口光刻机的一些原因。
ASML第三季度财报显示，ASML当季总共销售60部光刻系统，净销售额为40亿欧元，净收入11亿欧元，毛利率达到了47.5%，营收攀升至39.58亿欧元，其中，中国占据21%的份额。
前九个月销售业绩高达97.24亿欧元（约合人民币770亿元），同比大增近25%。其中，来自高端EUV光刻机的收入占比达到了总收入的66％。
此外，ASML还十分看好中国市场。海关总署数据显示，今年1-8月，我国累计进口了3334.6亿美元的集成电路，同比大增22.5%。
据南方新闻网报道，在9月17日的中国集成电路制造年会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波透露，截至当前，中国已经实现了700多台ASML光刻机的装机，几乎所有芯片生产商都购买过该公司的服务。
中国对于ASML来说实在是一个大市场。
而ASML也一直对中国市场有扩张野心。
在第23届中国集成电路制造年会(CICD2020)暨广东集成电路产业发展论坛上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波就表示：
此外，资料显示，2000年，ASML在中国天津正式成立大陆地区的第一个办公室，迄今为止在中国大陆12个城市有办事处或分支机构，分别为天津、上海、北京、无锡、武汉、西安、大连、南京、厦门（晋江）、合肥、深圳、广州。
可以说从一线城市到二三线城市都有ASML的布局。在中国受美方的打压下，ASML却在加速中国市场的布局。
这又是一个值得思考的问题。
听闻这一消息，网友也纷纷表态。
在他们看来，中国真正需要的是EUV光刻机，ASML这一做法并不能解燃眉之急，当务之急还是要自力更生。
为什么这么说呢？
我们先来看下DUV和EUV之间的区别。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。
DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。
而EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星、英特尔的5nm产线就无法投产。
EUV的重要性可想而知。
这也进一步证明了EUV的重要性。
那么，国内光刻机的发展现状如何呢？
根据百度百科的解释，一台光刻机由上万个部件组成，有人形容称这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。
而一台光刻机的售价从数千万美元高至过亿美元，可见光刻机的重要性。
在全球范围内，光刻机市场几乎被3家厂商瓜分：荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。
在这3家中，ASML又是当之无愧的一哥。据中银国际报告，阿斯麦全球市场市占率高达89%，其余两家的份额分别是8%和3%，加起来仅有11%。在EUV光刻机市场中，ASML的市占率则是100%。
而中国对于光刻机的制造几乎还在起步阶段。
但近年来，国家加大了对半导体行业的投入。
2019年4月，武汉光电国家研究中心甘棕松团队，采用二束激光，在自研的光刻胶上，突破光束衍射极限的限制，并使用远场光学的办法，光刻出最小9nm线宽的线段。
2020年初，中科院对外宣称已经攻克了2nm工艺的难题，相关研究成果已经发布到国际微电子器件领域的期刊当中。
5月19日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度LED步进投影光刻机，是中国首台面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品，已从1200多个申报项目中成功突围，入选“上海设计100+”。
10月15日，南京集成电路产业服务中心副总经理吕会军向媒体证实中国将建立一所南京集成电路大学，专门培养实践型芯片研发人才，以加速芯片的国产化。
同时，对于国内的光刻企业还要给予耐心，不能急功近利。