快科技4月28日消息，对于中国市场而言，ASML正在全力以赴，预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币超162亿元），其正在加快拓展在中国的业务和销售。
ASML CEO Peter Wennink表示，近几年，由于新冠疫情供应链停滞，芯片行业出现了长达多年的短缺。而现在，由于全球消费电子产品出货量持续下降，科技行业又再次进入半导体供应过剩的窘境。
他援引中国一家汽车制造商的话称，这家汽车制造商计划在未来三年制造大量的电动汽车，要求六七家成熟的半导体工厂为其供货，但中国本土的芯片工厂仍处于建设之中。
“阿斯麦与中国市场的往来，无论是对阿斯麦来说，还是对中国客户来说，都十分重要。上周，阿斯麦公布了强劲的第一季度业绩，并称其对中国的销售额将继续增加。”Peter Wennink坚定的说道。
在这之前，ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。
所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。
ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。
ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。
