设备成本渐成先进制程重要因素,Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关

7 月 2 日消息,韩媒《朝鲜日报》近日表示,ASML 预计于 2030 年左右推出的下一代光刻设备 —— Hyper (0.75) NA EUV 光刻机价格可能会突破一万亿韩元(备注:当前约 52. … Continue reading 设备成本渐成先进制程重要因素,Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关