12 月 2 日消息，ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品：世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。 TWINSCAN EXE:500 … Continue reading ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装
ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装
标签： High NA
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术
7 月 29 日消息，台媒《电子时报》（DIGITIMES）今日报道称，台积电最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。 ▲ ASML EXE:50 … Continue reading 消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术
设备成本渐成先进制程重要因素，Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
7 月 2 日消息，韩媒《朝鲜日报》近日表示，ASML 预计于 2030 年左右推出的下一代光刻设备 —— Hyper (0.75) NA EUV 光刻机价格可能会突破一万亿韩元（备注：当前约 52. … Continue reading 设备成本渐成先进制程重要因素，Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关