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12 月 19 日消息，SamMobile 消息称，ASML 将于未来几个月内推出用于 2nm 制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55，而三星计划在 2025 … Continue reading 消息称 ASML 明年推出用于 2nm 芯片制造的高 NA 光刻机，英特尔已采购 6 台