11 月 12 日消息,据韩国产业通商资源部官网新闻稿,半导体光刻胶巨头日本 JSR 今日在韩国忠清北道清州举行 MOR(注:金属氧化物)光刻胶生产基地的奠基仪式。 该生产基地由 JSR 在 … Continue reading 光刻胶巨头 JSR 韩国 EUV 用 MOR 光刻胶生产基地开建,预计 2026 年投产
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TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦
11 月 4 日消息,TechInsights 在当地时间 10 月 24 日的分析中表示,每台 ASML 0.33 NA EUV 光刻机的功耗就已经达到了 1170 kW,而 0.55NA (Hig … Continue reading TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦
三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作
4 月 29 日消息,据三星官方新闻稿,三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总部,并于蔡司 CEO 卡尔・兰普雷希特等就加强两家公司的合作进行了讨论。 ▲ 李在镕(中)、兰 … Continue reading 三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作
美光 CEO:中国台湾工厂今年将导入 EUV
集微网消息,美光总裁暨 CEO 梅罗特拉(Sanjay Mehrotra)今日表示,台中厂今年将导入 EUV。 据台媒报道,梅罗特拉指出,中国台湾拥有世界上最先进的逻辑和 DRAM 半导体技术,美光在 … Continue reading 美光 CEO:中国台湾工厂今年将导入 EUV
阿斯麦CEO:不卖EUV给中国大陆“是政府们的选择”
【文/观察者网 吕栋】 “这不是我们的选择,而是政府们(《瓦森纳协定》成员国)的选择。”日前,荷兰光刻机巨头阿斯麦CEO温彼得再次就向中国大陆出口EUV光刻机一事解释道。他今年1月曾表示,中国不太可能 … Continue reading 阿斯麦CEO:不卖EUV给中国大陆“是政府们的选择”
每台售价2亿美元 阿斯麦的EUV光刻机为什么别人还造不了
3月24日消息,在荷兰南部靠近比利时边境的维尔德霍温镇,坐落着全世界唯一一家能够组装EUV(极紫外)光刻机的工厂。 世界上最大的芯片制造商们都需要这种设备。在生产处理器芯片的过程中,EUV光刻机最昂贵 … Continue reading 每台售价2亿美元 阿斯麦的EUV光刻机为什么别人还造不了
Counterpoint:高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口
Counterpoint 发布的最新报告显示,由于 5G、物联网、云计算、高性能计算、汽车芯片和其他领域的需求增加,预计到 2030 年半导体行业收入将达到 1 万亿美元左右。随着技术节点缩小,DUV … Continue reading Counterpoint:高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口
韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试:打破完全依赖海外供应商的局面
韩国光刻胶供应商东进世美肯 (Dongjin Semichem) 表示,近日通过了三星电子的 EUV 光刻胶可靠性测试(合格)。这款光刻胶为双方合作研发,打破韩国 EUV 光刻胶完全依赖海外供应商的局 … Continue reading 韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试:打破完全依赖海外供应商的局面
三星电子开始采用EUV技术批量生产14纳米DRAM芯片
10月12日消息,据外媒报道,全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布,该公司开始使用极紫外光刻(EUV)技术批量生产业界最小的14纳米DRAM芯片,这有助于其巩固在存储行业的领导地位。 继去年3月出货 … Continue reading 三星电子开始采用EUV技术批量生产14纳米DRAM芯片
中科院微电子所在“极紫外 EUV 光刻基板缺陷补偿”方面取得新进展
近日,中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在极紫外光刻基板缺陷补偿方面取得进展。 中国科学院消息显示,微电子所研究员韦亚一课题组与北京理工大学教授马旭课题组合作,提出了一种基于遗传算法的改进 … Continue reading 中科院微电子所在“极紫外 EUV 光刻基板缺陷补偿”方面取得新进展