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本月中旬，在日本东京举办了ITF论坛。 论坛上，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 至少就目前而言，ASML对于3m、2nm、 … Continue reading 制造1nm芯片的EUV光刻机：ASML已完成设计