9 月 27 日消息，佳能日本东京当地时间昨日宣布，将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所（TIE）交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2 … Continue reading 佳能向美国得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
佳能向美国得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
标签： 纳米压印
媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率
东京理科大学（TUS）学者日前在纳米压印技术研究上取得突破，实现了紫外硬化纳米压印（UV-NIL）创建 10 纳米以下分辨率形貌的突破。 UV-NIL 技术由于不需要高温高压条件，是一种备受瞩目的纳米 … Continue reading 媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率