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中国科学院官网刊文称，上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。 光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一，光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限 … Continue reading 中科院：计算光刻技术取得重大进展

日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息，但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。 日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子（东京威力科创，Tokyo Electron）宣布 … Continue reading ASML拒绝新一代EUV光刻机跳票：找到日本巨头技术驰援

众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位。虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。 去年5月，华为在被美国升级制裁之后，台积电、 … Continue reading 上海微电子年底前推出28nm光刻机？很残酷

6月7日讯，在华为重磅发布HarmonyOS 2（鸿蒙操作系统）的当天，天眼查显示，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域了，入股了由中科院微电子所控股的北京科益虹源公司。 公开信息显示，北京科益虹 … Continue reading 大动作！华为最新投向光刻机 一图看懂国产产业链名单

近日美国商务部工业安全局（BIS）宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》（EAR）的商务部管制清单（CCL）中。 据了解，目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。 美国商务部在官网发布公告中 … Continue reading 包括光刻！美国禁运6项关键技术