外媒:三星年底将引入 Inpria 无机光刻胶,有望应用于 5nm 制程

7 月 26 日消息 据韩媒报道,三星正致力于推动光刻胶供应多元化的实现,计划在今年之内导入 Inpria 的无机光刻胶,目前双方已经完成性能评估,有望将其应用于 5nm 超精细工艺制程。 … Continue reading 外媒:三星年底将引入 Inpria 无机光刻胶,有望应用于 5nm 制程

一张图了解晶圆、光刻等知识:沙子如何演变为高科技芯片

Redmi Note 10系列计划5月26日(周三)下午14点发布,卢伟冰自曝还要在发布会上谈谈芯片的那些事儿。 5月24日下午,Redmi官方科普了晶圆、芯片等相关知识,包括芯片是如何制作而成的?随 … Continue reading 一张图了解晶圆、光刻等知识:沙子如何演变为高科技芯片

打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。 国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(43 … Continue reading 打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺