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快科技4月28日消息，对于中国市场而言，ASML正在全力以赴，预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币超162亿元），其正在加快拓展在中国的业务和销售。 ASML CEO Pet … Continue reading 支持7nm高端DUV光刻机可出口！ASML绝不能丢失中国市场背后 营收占比高

快科技4月26日消息，ASML的EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的设备，售价将近10亿元一台，之前台积电、三星等公司纷纷抢购，然后现在半导体市场牛熊转换，EUV很快也面临卖不动的局面。 ASML前 … Continue reading ASML不承认也没用 EUV光刻机明年真的不好卖：第一大客户带头砍单

努比亚手机今日官宣，将推出努比亚Z50 Ultra星空典藏版。 据介绍，新机采用全球唯一环保玻璃立体蚀刻工艺，配合纳米级光刻纹理AG玻璃材质，带来科技与艺术的碰撞。 这项设计的灵感来自于荷兰后印象派画 … Continue reading 努比亚Z50 Ultra星空典藏版公布：纳米级光刻纹理AG玻璃

感谢网友 肖战割割 的线索投递！ 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体元器件，需要提高套刻的精度，因而 … Continue reading 佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率

光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，减少光掩模的损坏。 目前，光罩薄膜的供应 … Continue reading 追赶台积电！三星推动开发高端EUV薄膜

荷兰ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备。 所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率 … Continue reading ASML新一代高NA EUV光刻机造价2500亿：Intel一年赚的钱不够买一台

今日，联想YOGA向大家展示了YOGA Pro 14s王一博定制版笔记本，该机将于今晚18:30的联想消费生态星光直播夜限量发售。 据官方介绍，新本采用首创的3D纳米浮雕光刻技术，在A面重构出几何金属 … Continue reading 首创3D纳米浮雕光刻！联想YOGA Pro 14s王一博定制版亮相

在EUV光刻工艺上，Intel此前承认他们过去翻错了，让台积电、三星抢先了，毕竟Intel是最早研发EUV工艺的半导体公司之一，现在Intel可以追上来了，今年底就首次使用EUV的Intel 4工艺就 … Continue reading Intel首代EUV工艺来了！14代酷睿年底流片：5芯合1

集微网消息，上海集成电路材料研究院官网日前刊文，回顾了该院建院两年来取得的科研与产业化成果。 这家由中国科学院上海微系统与信息技术研究所、上海硅产业集团股份有限公司共同发起成立的研究机构致力于衬底材料 … Continue reading 上海集成电路材料研究院采用创新范式提高光刻材料研发效率