6 月 18 日消息，日本三井化学拥有荷兰阿斯麦（ASML Holding NV）授权的 EUV 光罩生产业务，并于 2021 年开始在其岩国大竹工厂商业化生产 EUV 光罩，从而成为该行业的全球领导者。
三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品（保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品）。
三井化学预期年产能力为 5000 张，生产线预计于 2025 年 12 月完工，可用于荷兰 ASML 将推出的下一代高数值孔径、高输出 EUV 光刻机提供支持。
那么问题来了，什么是 CNT 薄膜呢？要介绍新材料这里还需要带大家先了解一下新 EUV 光刻机的能力和需求。
简单来说，下一代 EUV 光刻技术对高数值孔径（NA 值 0.55）、高输出功率 (600W 及更高) 工艺的需求尤其显著，而由新材料制成的薄膜对于承受“能实现此技术所需的苛刻光刻环境”至关重要。
为此，三井化学开发出了新款 CNT 薄膜并决定进行量产。据介绍，这种 CNT 薄膜可以实现 92% 以上的高 EUV 透射率和超过 1kW 曝光输出功率的光阻能力。
三井化学希望通过在其产品线中添加使用 CNT 作为膜材料的新一代防护薄膜产品，以及使用硅基膜制成的传统 EUV 防护薄膜，从而有帮助 ASML 提高半导体性能和生产率。
参考资料：
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《MITSUI PELLICLE™ | MITSUI CHEMICALS, INC.》
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《Works | Domestic Sites | MITSUI CHEMICALS, INC.》