4 月 29 日消息，据三星官方新闻稿，三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总部，并于蔡司 CEO 卡尔・兰普雷希特等就加强两家公司的合作进行了讨论。
蔡司是 ASML EUV 光刻机光学系统的独家供应商，每台 EUV 光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件，蔡司还在 EUV 光刻技术领域拥有 2000 多项关键专利。
多位负责半导体生产技术的三星电子高管也陪同李在镕进行了此次访问，包括 DS 部门 CTO 的宋在赫和 DS 部门的制造与技术总裁南锡宇等。
三星和蔡司管理层就双方公司半导体技术主要趋势和中长期技术路线图进行了交流。
未来，三星电子和蔡司将进一步扩大双方在 EUV 技术和先进半导体设备相关领域的合作。
合作的深化有望在三星未来的半导体产品上实现性能增强、流程优化、产能提升的成果，最终提升三星半导体代工和存储器业务的竞争力。
蔡司还计划到 2026 年投资 480 亿韩元（备注：当前约 2.53 亿元人民币）在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。
新闻稿中还提到，三星电子计划于年内实现 1cnm（第六代 10nm 级）内存的量产，并正积极推广 NPU 业务。